《敢達爭鋒對決》5.1版本即將來襲 基地競技場等全新優(yōu)化

2022-03-14 來源:廠商投稿 編輯:蘇輕衣 分類:

最新消息!《敢達爭鋒對決》即將開啟5.1新版本!本次更新涉及加載背景、研發(fā)基地等多個方面的調(diào)整!一起來看看吧!ehG中國電競網(wǎng)

自定義加載背景

顧名思義!從今以后加載背景可以由玩家自由設定!大家可以在“設置”—“加載背景設置”功能頁簽中進行設置!如果你擁有指定的機體!也可以激活該機體專屬的加載背景!背景圖支持全屏預覽!并且在預覽狀態(tài)下便能設置為背景!操作相當方面!據(jù)說后續(xù)還會有更多的背景供大家選擇!包括但不限于游戲、動畫等!ehG中國電競網(wǎng)

《敢達爭鋒對決》5.1版本即將來襲 基地<a href=http://www.cmegz.com/ target=_blank class=infotextkey>競技</a>場等全新優(yōu)化(圖1)ehG中國電競網(wǎng)
《敢達爭鋒對決》5.1版本即將來襲 基地競技場等全新優(yōu)化(圖2)ehG中國電競網(wǎng)

研發(fā)基地調(diào)整及永久開放

5.1版本更新后!【研發(fā)基地】入口將被設置在“通訊員展開的功能列表中”!總共4個研發(fā)位置可供大家選擇已有的機體進行研發(fā)!以此獲得相應的獎勵!值得注意的是!在新版本中!前2個研發(fā)位置可免費使用!后2個研發(fā)位置則每次使用都需要消耗固定數(shù)量的點券!下面給大家進行一個詳細的介紹!ehG中國電競網(wǎng)

《敢達爭鋒對決》5.1版本即將來襲 基地競技場等全新優(yōu)化(圖3)ehG中國電競網(wǎng)
《敢達爭鋒對決》5.1版本即將來襲 基地競技場等全新優(yōu)化(圖4)ehG中國電競網(wǎng)

每個研發(fā)位置擁有獨立的研發(fā)次數(shù)!玩家可從已有的機體列表中選擇機體放入研發(fā)位置(1臺機體同時只可放入1個研發(fā)位置)!不過一旦開始研發(fā)!中途無法停止!必須完成當前機體的研發(fā)后才能繼續(xù)選擇其他機體進行研發(fā)!ehG中國電競網(wǎng)

此外!所有研發(fā)位置初始默認研發(fā)次數(shù)為0!需要通過完成游戲內(nèi)活躍任務!累計一定的活躍度來獲取研發(fā)次數(shù)!具體規(guī)則為:每累積1200點活躍度!所有研發(fā)位置自動增加1次可研發(fā)次數(shù)!每個研發(fā)位置最多可累積10次可研發(fā)次數(shù)(研發(fā)次數(shù)到達10次的研發(fā)位置!即使再次累計1200活躍度!該研發(fā)位置也不會再增加研發(fā)次數(shù)!而其它未滿10次研發(fā)次數(shù)的研發(fā)位置仍然可以增加可用的研發(fā)次數(shù))!ehG中國電競網(wǎng)

研發(fā)進度則需要通過戰(zhàn)斗進行累積!不同的戰(zhàn)斗類型以及戰(zhàn)斗的勝負結(jié)果均會影響增加的研發(fā)進度!同時選擇多個機體進行研發(fā)時!可同時增加多個研發(fā)位的進度值!當研發(fā)位置的進度值到達100%時!需要大家手動領取獎勵!獎勵將根據(jù)研發(fā)所選的機體獲得對應的獎勵(隨機獲得對應的機體碎片或機體對應的改造材料)ehG中國電競網(wǎng)

當一臺機體完成研發(fā)時!該機體將進入120小時的研發(fā)冷卻時間!在冷卻時間結(jié)束前不可再選擇該機體進行研發(fā)!ehG中國電競網(wǎng)

競技場補給箱優(yōu)化

本次版本更新還對競技場補給箱進行了優(yōu)化!調(diào)整之后默認寶箱欄將全部開啟!領取銀色補給箱也不再設置冷卻時間!同時!銀色補給箱領取條件調(diào)整為“個人累計造成傷害”及“全隊累計擊落敵機數(shù)量”!僅金色補給箱保留領取冷卻時間(可通過激活月卡降低冷卻時間)!ehG中國電競網(wǎng)

以上就是《敢達爭鋒對決》5.1新版本的全部介紹!大家對本次更新有什么看法?可以在評論區(qū)留言!ehG中國電競網(wǎng)

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